韩媒：三星美国泰勒晶圆厂3月测试EUV光刻机 加速2奈米GAA製程部署
外媒最新报导指出，南韩三星电子将于今年 3 月在美国泰勒一号工厂启动 EUV 光刻机测试，随后逐步导入蚀刻、沉积等设备，计画下半年正式投产。
《韩国经济新闻 (KED)》周一(19 日) 报导，为加速进度，三星已向德州政府申请工厂临时使用许可，可在满足消防与安全条件下在竣工之前先行运作，并派遣大量王牌级工程师驻场，以稳定良率。
报导指出，三星泰勒厂外观跟一年前相比变化巨大，塔式起重机几乎全撤，停车场停满车辆。工地每日约 7000 人作业，六层办公大楼已有 1000 人办公，为投产做最后準备。
三星泰勒厂佔地约 485 万平方公尺，超越三星的平泽厂与华城厂的总和，且仅用四年建成，速度快过南韩本土。
产能方面已有明确去向。去年 7 月，三星拿下特斯拉 165 亿美元 AI5、AI6 晶片订单，马斯克曾称该金额只是下限，实际产量有望比此数字高出数倍。
高通执行长安蒙亦透露，正考虑将下一代 AP 晶片交由三星生产。若客户持续加码，三星可能提前启用尚在基础施工的泰勒二号厂。该厂区定位为面向大型科技公司的扩展基地，预留土地最多可建十座厂，迎战 AI 时代代工需求。
业界认为，三星成败关键在于能否满足特斯拉的严苛标準，一旦达标，美国科技巨头有望能减少对台积电的依赖。
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