EUV光源功率可提升至千瓦！艾司摩尔：2030年每小时晶圆产量可望提升50%
《路透社》周一 (23 日) 独家报导指出，艾司摩尔最新表示，已找到可大幅提升关键晶片製造机器光源功率的方法，进而能在 2030 年前将晶片产量提高多达 50%。
这家半导体设备製造龙头的研究人员指出，透过提升功率，可将光刻机极紫外光源的功率提升至 1000 瓦，预计到 2030 年极紫外光 (EUV) 微影设备每小时的晶圆产量可增加 50%。
艾司摩尔技术长 Michael Purvis 说：这并非噱头，也不是那种只能维持极短时间演示的把戏，这是一个能在满足客户所有实际需求的情况下，稳定产生 1000 瓦功率的系统。
艾司摩尔是全球唯一能製造极紫外光 (EUV) 微影设备的公司，该设备是台积电、英特尔等晶圆製造商生产先进运算晶片的重要工具。
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