应材携手铠侠 共同推进新一代记忆体技术发展

应用材料(AMAT-US)今(30)日宣布，全球快闪记忆体与固态硬碟(SSD)领导厂铠侠株式会社(KIOXIA Corporation)将加入应材位于硅谷的设备与製程创新暨商业化(Equipment and Process Innovation and Commercialization, EPIC)中心，成为共同推进新一代记忆体技术发展的创新伙伴。

应材指出，双方将于 EPIC 中心合作开发先进记忆体单元与结构、多晶片堆叠架构，以及全新的材料工程技术，以提升 AI 时代所需的记忆体密度与效能。

应用材料总裁暨执行长盖瑞．迪克森(Gary Dickerson)表示，AI 基础设施需要具备更高密度、更大频宽与更佳能源效率的记忆体解决方案。透过在 EPIC 中心结合铠侠深厚的记忆体技术专长，以及应材的材料工程创新能力，我们建立强大的合作伙伴关係，开创下一代记忆体技术的更多可能。

铠侠社长暨执行长太田裕雄(Hiroo Ota)表示，铠侠始终坚信记忆体技术的发展潜力取决于持续突破材料与製程创新的界限。双方合作展现共同推动记忆体创新的承诺，期待在 EPIC 中心合作，携手实现先进技术突破。

透过 EPIC 中心的合作，应材与铠侠将共同推动研发计画，以因应新一代记忆体创新所面临的关键挑战，重点领域包括先进记忆体单元与结构开发、新一代记忆体多晶片堆叠技术、堆叠式记忆体先进封装技术以及材料工程创新。

应用材料公司半导体产品事业群总裁帕布‧若杰(Prabu Raja)表示，记忆体是 AI 创新蓝图的核心，而在提升记忆体密度的同时兼顾成本与技术複杂度，必须仰赖材料、设备与製程技术的持续突破。我们期待与铠侠在 EPIC 中心展开深度协同创新，驱动 AI 记忆体技术发展。

铠侠先进记忆体开发总经理 Minori Kajimoto 表示，与应用材料在 EPIC 中心的合作，让公司能在独特的环境中，共同克服新一代记忆体最艰鉅的挑战。透过铠侠与应用材料公司的顶尖创新人才并肩合作，期望加速记忆体与封装技术突破的商业化，为 AI 运算实现更高层次的整合与效能。