2奈米需求旺 新应材高雄厂一期今年满载、二期明年投产

特化材料厂新应材 (4749-TW) 今 (12) 日召开法说会，董事长詹文雄表示，随着客户先进製程持续推进，今年营运表现将取决于 2 奈米製程量产进度，相关需求将由高雄厂扩产支应，其中高雄厂一期今年将达满载，二期预计明年上半年投产。

总经理郭光埌指出，先进製程节点持续演进，包括 A16、A14 製程目前已进入验证阶段，新应材相关材料均持续参与客户开发；此外，在先进封装方面，公司已有一项产品通过客户验证，预计今年开始贡献营收，将导入客户全新封装型态。

在产能布局方面，新应材高雄厂一期产能预计今年将达满载阶段，二期预计于 2027 年第一季量产；高雄三期则是因应下世代製程需求；龙潭科学园区新厂将建置全新研发中心与合成工厂，预计 2028 年初完工，届时将以生产 DUV 光阻为主。

产品布局方面，新应材主要聚焦先进製程材料、先进封装材料与光学元件材料 三大领域。其中先进微影材料已全面导入客户量产，包括表面改质剂 (Rinse)、洗边剂 (EBR)、清洗剂 (Cleaner) 与底部抗反射层 (BARC)，并随製程节点从 2 奈米延伸至 1.4 奈米；公司也持续开发 Protection Layer 等新材料。

光阻材料方面，新应材近年积极布局 DUV 光阻液，未来三年将重点发展 KrF 与 ArF 光阻产品，其中 KrF 已获客户认可，ArF 则预计进入客户验证阶段。詹文雄指出，全球 DUV 光阻市场规模去年约 25 至 27 亿美元，其中 KrF、ArF 与 ArFi 超过 20 亿美元，预估至 2030 年将成长至约 30 亿美元，因此公司规划投入约 1 亿美元资金发展相关产品。

先进封装方面，新应材也布局共封装光学 (CPO) 相关材料。总经理郭光埌表示，CPO 技术仍需数年发展，公司已针对光学材料、胶材以及暂时保护层等多项材料进行开发，相关材料须能承受红外线雷射等严苛条件，目前已有多项产品取得客户进展，未来量产时程仍须视客户导入进度而定。

新应材去年毛利率约 43%，展望今年，詹文雄指出，去年研发费用增加约 1.6 亿元、折旧增加 1 亿元，加上新厂管理费用，公司预估毛利率将大致维持去年水準。

至于转投资布局，新应材去年底新设立的新宝紘目前仍处产品开发阶段，今年仍需投入建厂与研发，短期内不会贡献获利；另外公司投资奇鼎，则看好其在厂务设施与 ESG 领域的经验，未来在黄光製程周边设备与材料上具有潜在合作机会。