imec取得High-NA EUV系统 推动业界步入埃米世代

比利时微电子研究中心 (imec) 今 (19) 日宣布，艾司摩尔 (ASML-US) EXE:5200 高数值孔径极紫外光(high-NA EUV) 微影系统顺利到厂，藉由此次的策略里程碑，imec 进一步确立其在埃米时代扮演产业发展基地的关键地位，提供其全球伙伴生态系统提前取得新一代晶片微缩技术的空前机会。

这套 High-NA EUV 系统直接整合量测和图形化工具及材料的全面套件，将能赋予 imec 及其生态系统伙伴发展量能，以解锁 2 奈米以下逻辑和高密度记忆体技术所需的性能，这些先进技术将为先进 AI 与高效能运算技术注入快速成长的动能。

imec 执行长 Luc Van den hov 表示，过去两年已经为高数值孔径 (0.55NA) EUV 微影技术写下重要篇章，双方共同于荷兰 Eindhoven 建立的 High-NA EUV 实验室，携手生态系统来领先研发 High-NA EUV 技术。EXE:5200 High-NA EUV 微影系统安装在 imec 设于比利时鲁汶的 12 吋无尘室，希望藉此推动这些 High-NA EUV 图形化技术与产业接轨，并开发新一代 High-NA EUV 图形化技术的应用案例。

Luc Van den hov 指出，这套系统具备最顶尖的解析度、增强型叠对性能、高产量，以及提升製程稳定度和产量的新型晶圆仓储设备，这些特点将在 imec 合作伙伴加速 2 奈米以下的晶片发展时，提供他们决定性优势。随着半导体业迈入埃米世代，High-NA EUV 技术将是基础战力，而 imec 透过提供自家合作伙伴最早全面取得这项技术的机会而有幸能率先开发。

这项里程碑是 imec 与 ASML 策略伙伴关係的关键部分，该协议为期五年，并获得欧盟 (晶片联合承诺与欧洲共同利益重要项目)、法兰德斯政府与荷兰政府的支持。

Luc Van den hov 说明，作为欧盟资助的奈米晶片试验製程的组成部分，这套工具预计将巩固欧洲在未来数十年先进半导体研发的领导地位。

在 imec 的无尘室配备 ASML EXE:5200 High-NA EUV 微影系统，稳固 imec 在先进图形化技术领域作为最完整开发环境的地位。imec 与各大晶片製造商、设备、材料与阻剂供应商、光罩企业及量测专家建立深度生态系统合作，这将能让我们加速学习循环并提升製程稳定度，为新一代逻辑和记忆体元件技术，开发与展示尖端图形化技术，驱动将能塑造未来先进运算与 AI 发展的技术创新。

ASML 执行长 Christophe Fouquet 表示，imec 成功安装 EXE:5200 曝光机是迈向埃米世代的重要一步。透过合作，公司正在加速 High-NA EUV 为新世代先进记忆体与运算技术拓展应用的能力。

imec 预期 EXE:5200 High-NA EUV 微影系统将在 2026 年第四季完成所有检验。同时，ASML 与 imec 于荷兰 Eindhoven 共同建立的 High-NA EUV 微影实验室也将维持运作，为 imec 及其生态系统伙伴确保 High-NA EUV 研发工作持续进行。